198097, Санкт-Петербург, ул. Трефолева, д. 2, лит. Р, офис 412А

Установка вакуумной пайки УВП «ГелиТерм»

 

Установка вакуумной пайки УВП «ГелиТерм». Производство НПО "Геликон".

 

 

Установка вакуумной пайки УВП «ГелиТерм»

 

 

 

 

 

 

 

 

Установка вакуумной пайки УВП «ГелиТерм» предназначена для высококачественной пайки электронных компонентов, полупроводниковых приборов и микроэлектронных сборок в условиях вакуума и контролируемой газовой среде. Применение вакуума позволяет значительно снизить образование газовых включений и пустот в

паяных соединениях, повысить качество соединения и обеспечить стабильность технологического процесса.
Установка обеспечивает высокие скорости нагрева и охлаждения, равномерное распределение температуры в рабочей зоне и возможность проведения пайки без применения флюса.

В зависимости от комплектации технологический процесс может выполняться в среде азота, водорода или их смеси. Дополнительная система химической активации позволяют удалять оксидные плёнки с обрабатываемых поверхностей, улучшая смачивание припоем и качество паяных соединений.

Автоматизированная система управления с сенсорным экраном обеспечивает создание, сохранение и выполнение технологических программ с заданными температурно-временными профилями. Интерфейсы Ethernet и USB позволяют подключать внешние устройства, сохранять технологические данные и обеспечивать удалённое управление.

 

Области применения установки вакуумной пайки УВП «ГелиТерм»

  • Силовая электроника — пайка силовых полупроводниковых приборов, модулей и электронных компонентов.
  • Микроэлектроника — монтаж полупроводниковых кристаллов, изготовление гибридных микроэлектронных сборок и многослойных электронных структур.
  • Оптоэлектроника — сборка светодиодов, лазерных диодов и других оптоэлектронных компонентов. 
  • Герметизация электронных компонентов — создание герметичных соединений корпусов электронных приборов и модулей.
  • Производство полупроводниковых приборов — пайка и герметизация компонентов на уровне полупроводниковой пластины до разделения на отдельные кристаллы. 
  • Высокомощные светодиоды — монтаж и пайка компонентов с повышенными требованиями к теплопроводности и качеству соединений. 
  • Микроэлектромеханические системы (МЭМС) — сборка и герметизация датчиков, микромеханических устройств и других миниатюрных компонентов.

 

Преимущества установки вакуумной пайки УВП «ГелиТерм»

  • Рабочая температура до 450 °C.
  • Высокая равномерность распределения температуры в рабочей зоне.
  • Возможность работы в высоком вакууме — до 0,001 Па (7,5 × 10⁻⁶ мм рт. ст.) в соответствующем исполнении.
  • Минимизация пористости и газовых включений в паяных соединениях.
  • Высокие скорости нагрева и охлаждения, сокращающие продолжительность технологического цикла.
    Возможность бесфлюсовой пайки в различных газовых средах.
  • Автоматическое выполнение технологических программ с воспроизводимыми параметрами процесса.
    Удобное управление с помощью сенсорного экрана.
  • Возможность удалённого мониторинга и управления.

 

Дополнительные опции

  • Система подачи водорода (H₂). Позволяет проводить пайку в восстановительной атмосфере с содержанием водорода до 100 %. Предусматривает необходимые средства контроля и защиты при работе с водородом.
  • Система подачи паров муравьиной кислоты (HCOOH). Встроенный барботёр обеспечивает подачу паров муравьиной кислоты в рабочую камеру. Применение HCOOH способствует восстановлению оксидных плёнок на металлических поверхностях, улучшает смачивание припоем и позволяет выполнять пайку без традиционных флюсов.
  • Смотровое окно. Оснащение крышки камеры смотровым окном для визуального наблюдения за процессом пайки. 
  • Дополнительные исполнения системы электропитания. Возможность адаптации электрической части установки к параметрам питающей сети заказчика.

 

Основные характеристики установки вакуумной пайки УВП «ГелиТерм»

Наименование параметраЗначение
Рабочая температура, °C  до 450
Габаритные размеры, мм (Д × Ш × В) 620х812х1500
Размеры зоны нагрева, мм 300х300
Максимальная высота изделия, мм 100
Предельное остаточное давление при 25 °C (стандартное исполнение) 10 Па (7,5 × 10⁻² мм рт. ст.)
Предельное остаточное давление при 25 °C (высоковакуумное исполнение) 0,001 Па (7,5 × 10⁻⁶ мм рт. ст.)
Производительность вакуумного насоса, м3/ч 8
Масса установки, стандартное исполнение, кг (стандартное исполнение) 150
Максимальная скорость нагрева, °C/мин 100
Максимальная скорость охлаждения, °C/мин 80
Технологические среды N₂, H₂ (до 100 %), N₂/H₂ (95/5), пары HCOOH
Охлаждение рабочей камеры Водяное
Интерфейсы Ethernet, USB

Характеристики и состав оборудования могут изменяться в зависимости от выбранной комплектации и технологических требований заказчика.